リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

より各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 Ｒ＆Ｄ用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード＆ソ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動ＣｔｏＣ方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も選択でき、基板や目的に合わせて個別要求にご対応いたします。 シンプルな装置構成にも対応可能、リーズナブルなコスト対応を実現いたします。 上位...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

いますので、優れた光学品質を持っています。製品は光の透過率が80％以上も達します。 特許的な異質材料を溶接技術でステンレスとサファイアを溶接して、良い真空気密性があります。 製品はコバールなどの磁性材を使用しないため、周囲の磁力線を変更する恐れがありません。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

をもとに、幅広く対応できる低価格のスパッタ装置です。 約1Pa～0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 さらに、20mm角基板対応の『S-QAMシリーズ』も新登場！ 研究開発現場での使い勝手を最優先に配慮した新モデルとなっています。 ★ただいま、QAMシリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

簡易実験用スパッタリング装置（ＳＲＶ３１００型）

小径基板専用のコンパクトタイプスパッタリング装置　全手動操作で低コスト…

成膜系：φ３インチカソード　１元装備 　　　：高周波電源　　　　　１源装備　 　　　：基板加熱機構標準装備 　　　：排気系　拡散ポンプ＆油回転ポンプ 操作系：全手動 オプション機構 磁性材用カソード　コンベンショナルカソード　ＤＣバイアス 逆スパッタ機構　バイアススパッタ機構　基板高温加熱 主ポンプ変更（ターボ分子ポンプ採用） 全自動化 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

て、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

ch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高強度マグネット、などのオプションが豊富 ・各種フランジサイズ接続に対応...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

圧力：6.7 x 10^-5Pa以下（排気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ■RF出力：最大300W オートマッチング付き ■プロセス圧力：0.1Pa ～ 1.0Pa（Arガス） ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置　リモートプラズマソースの開発…

をイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用を可能としています。 研究用途から生産規模の装置まで柔軟に対応できる多性...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

【コーティング活用例】 　磁性粉体（サマリウムコバルト系、鉄ネオジム系、フェライト等）への保護膜形成 　　・保磁力、分散性の向上 　　・参加劣化防止 　　・帯電防止 　全個体電池（結晶、ガラス、ガラスセラミックス） 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社