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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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20000時間保守無運転!ルーツポンプ(メカニカルブースター)
堅牢なルーツポンプ。3つのモーター接続構造。摩耗部分を少なくし長寿命実…
レーザガスシステム用 ※フランジ型モータではモータとポンプの駆動軸がカップリングで直結され、駆動軸はシャフトシールで密閉されています ※※キャンドモータではモータ内のロータとステータが非磁性体の気密キャンで分離されています。ロータ側が真空中となりますが、摩耗を受ける軸シールを使用しません ※※※ハーメチックモータはモータアセンブリの全てが真空内に組み込まれており、軸シールを使用せず、...
メーカー・取り扱い企業: ライボルト株式会社
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