リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ウエハー用テフロンコートピンセット（先端テフロンカバー付）

半導体ウエハー・基板等のハンドリング洗浄用に最適

全体は、テフロンコート仕上げで耐薬品性があります 表面接触が少ない二つ爪 爪部分をテフロンチューブで被膜してあるため対象物のキズを防止しつつ、 しっかりとグリップできます その他形状の非磁性ステンレス・チタン・カーボン・セラミック・樹脂製ピンセットのお取扱もございます...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイセー 本社

薄膜材料　スパッタリングターゲット・蒸着材料

スパッタリングターゲット、蒸着材料ともに高純度の製品をお届けします。

重視のNi-Cu、 　相手基盤との相性によってはNi-Cr、Ni-V、Crを選択ください。 ◯薄膜抵抗用ターゲット 　目標の科学組成に制御し、お客様の望む電気抵抗率を設計できます。 ◯金属系磁性膜 　独自の湿式及び精製技術で不純物の極めて少ないターゲットを提供します。 ●詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイヘイテクノサービス