リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

アモルファス　スコット結線変圧器（特許出願中）

アモルファスコアにすることで、従来品より無負荷損を１／４～１／６程度に…

アモルファス合金帯を鉄心に用いると結晶構造の珪素鋼板等の磁性材に比べ、 磁束を変化させた場合の原子の回転が容易になり、 ヒステリシス損（磁束が通る際の損失）が少なくなり、また板厚が薄いので渦電流損失も少なくなります。 したがって、アモルファス鉄心は...

メーカー・取り扱い企業： 治部電機株式会社 本社