リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

磁性流体シール

磁性流体シール

磁性流体シールは磁場に流体が反応することにより駆動部から発生するコンタミなどのクリーンエリアへの浸入を阻止します。従来品より同性能にて大幅なコストダウンを可能とします。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロー・ジョイント

LEMO■半導体製造装置用コネクタ

「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…

た幅広いレンジの装置で 数多くのモデルが半導体製造装置で採用されています。 ■下記のような環境下でも使用出来るコネクタをお探しの際は是非お問合せ下さい。 ・高密度 ・小型同軸 ・非磁性 ・高電圧シールドコネクタ：最大50kVDC対応 ・信頼性の高い真空気密レセプタクルと真空フィールドスルーカプラ 　真空(気密) 　He漏れ率：1x10＾-7 mbar.ℓ/s (1x10＾...

メーカー・取り扱い企業： 丸紅エレネクスト株式会社