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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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ゆれ止め機構を標準装備!移動時の持運びが容易な卓上除振台
「PJS5545-U」は、電源・圧縮エアー不要でゼロエネルギーの卓上除振台です。 磁性ステンレス天板で、マグネットスタンドを吸着固定します。 また、設置が容易で、保守メンテナンスも不要。 排気や発熱がないので、超精密な測定に影響をあたえません。 環境温度の影響を受けず、安定した...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニロック
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