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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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ゴム管止め用・ゴム栓用、下口付をご用意!クライミングオリジナル吸引ろ過…
化学用ガラス器具を取扱っております。 オリジナルの『吸引ろ過瓶』は、ゴム管止め用、ゴム栓用をはじめ、 下口付(ゴム栓用)をラインアップ。「ガラスろ過器(ブフナロート型)」や 「ろ過ロート(磁性・ブフナ型)」も取り揃えております。 また、吸引ろ過瓶に使用するゴム栓の穴開け加工にも対応いたします。 【ラインアップ】 ■吸引ろ過瓶(ゴム管止め用) ■吸引ろ過瓶(ゴム栓用) ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クライミング
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