リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超厚膜光学レンズ 金型用無電解ニッケル『NAC-S1000』

1000μmまで可能な超厚膜メッキ！さまざまな光学レンズ金型に対応！

■融点：890℃ ■電気抵抗：90μΩ/cm ■熱伝導度：0.02cal/cm sec ℃ ■弾性係数：200GPa ■伸び率：1% ■内部応力：0～-2Kg/mm2 ■磁気性質：非磁性 ■熱膨張係数：11.5～12×10-6 ℃ ■硬度：570～580 Hy ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナクロ