リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

真空油焼入炉　NVF-50-OQ

ガス冷却も油の影響をうける事なく光輝な仕上がり！

ト弁により 　完全にシールされ加熱室内は油の影響がない ○ガス冷却も油の影響をうける事なく光輝に仕上がる ○処理製品は油焼入鋼、空冷鋼、ロー付、SUS材の溶体化処理 　チタン合金の焼純、磁性材の焼純など 　ガス焼入真空炉以上の処理が可能（2室、3室のタイプも製作可能) ●より詳しい掲載内容につきましては、 　カタログをご覧頂くか、直接お問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 中日本炉工業株式会社