リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

振動ふるい機『スタンダードタイプ』使用実績一覧表のPDFを配布

食品、薬品分野等で実績多数！湿式、乾式、粒子の性質や形状を問わず、あら…

付けは、用途に応じて選択可能。 ■ 本体材質は、ステンレス・鉄・チタンなど用途に応じて選択可能。 ■ 異物除去、コンタミ防止に能力発揮。 【こんな分野で採用されています！】 食品、電気・磁性材料、窯業、塗料、医療品・薬品、 化学・合成樹脂、金属分野など ※採用実績一覧表を、下記よりダウンロードして頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： ケイエスリンクス株式会社