リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

AC リーククランプメータ『CM4002／CM4003』

漏電探査をスマートに、より高精度に！微小な漏れ電流を正確に検出

『CM4002／CM4003』は、新設計のセンサで微小な漏れ電流を 正確に検出するAC リーククランプメータです。 コアとシールドに高透磁率磁性材料を使用し、均一巻線構造で CTセンサを構成。 クランプした際に、電線がジョー内のどの位置にあっても同じ感度で検出し、 ローパスフィルタで、インバータ機器などによる高周波の容量性漏れ電流...

メーカー・取り扱い企業： 日置電機株式会社