リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超精密コーティングダイ・ノズル・周辺装置

超精密コーティングダイ・ノズル・周辺装置

ィングダイ・ノズル及び周辺装置を高精度製品に不可欠な熱処理〜加工〜超精密鏡面研削仕上げまで全て自社工場にて行い高精度、低コスト、短納期にてお客様のご要求通りの精度で製作させていただきます。 素材は磁性、非磁性問わず同精度で仕上可能です。 又弊社はダイ本体を架台上で2分割するダイオープン機構（PAT.3447987）を開発。この機構でダイ内部清掃時間の大幅短縮を可能とし、従来の問題点だった取外し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社江新エンジニアリング