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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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遠心力1700G[最大3000G]による精密濾過と低含水率スラッジ回収…
粉回収が可能。 【特徴】 ○遠心力1700G [最大3000G] による精密濾過と低含水率スラッジ回収 ○ペーパーフィルター・フィルタープレス等のような濾材等消耗品無し ○水溶性・油性・磁性体・非磁性体を問わず、有価物との濾過分離可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマプレシジョン
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液温上昇を抑制!小型の研削盤、マシニングセンタ、穴あけ専用機などに
工精度を維持します。 また、ペーパフィルタやカートリッジフィルタ等の消耗品がなく 交換作業は不要、ランニングコストを大幅に削減します。 【特長】 ■液温上昇の抑制 ■比重の小さい非磁性体でも分離は良好 ■ランニングコストを大幅削減 ■ダウンタイムの解消 ■容易なスラッジ排出 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: TSK株式会社
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