リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

MPHF(ファインダイヤモンド）

サブダイヤモンド、ミクロンパウダー

特徴：サブミクロンとナノサイズ単結晶ダイヤモンド 用途： ★ ICチップ、ネオジム磁石、鉄、クオーツ、宝石、光学レンズ、精密セラミック等硬質や磁性材料のラッピングとペーストの製造に適します。 ★複合コーティングと耐磨耗材料の添加物や潤滑物とするのも可能です。 ★光学計器、精密計器、航空と自動車工業のポリッシング材料とするのは理想的です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 鄭州多磨超硬材料有限公司(ZZDM SUPERABRASIVES CO.,LTD)