リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【解析事例】外場機能を用いたRFIDカードの磁性シートの効果

磁性シートを装着した場合、起電力にどのような変化が生じるか

RFIDカードの近傍に金属が設置されていた場合、外部一次コイルによってカード内の回路に発生する起電力は、金属からの減磁効果により著しく低下します。この減磁効果を抑えるためカード表面に磁性シートを装着した場合、起電力にどのような変化が生じるかPhoto-Eddyjωで解析を行いました。 詳しくはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトン

【解析事例】ヒステリシスを考慮した円柱磁石の着磁解析「硬磁性」

「双曲線関数近似」を使用！数値と双曲線関数でヒステリシスループを決定し…

ヒステリシス解析機能を使用し、高い保磁力を有する磁石の着磁解析を 行いました。 円柱状の磁石をコイルで着磁。電流は0[A]から増加させ、最大値に到達したら、 0[A]に戻します。その時の空間の磁場を解析しました。 ヒステリシス解析機能はヒステリシスループを表現する方法として、 当事例では「双曲線関数近似」を使用。 双曲線関数近似は、保磁力、残留磁化及び飽和磁化が入力値となり...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトン