リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

有限会社アマリ精工　会社案内

優しい地球環境を目指して、臭気ゼロへの挑戦！

中でも高温酸化触媒方式の脱臭装置は、工場の排出臭気の濃度を限りなく低減することができ、さらにメンテナンスフリーなので環境・経済に大きく貢献します。 【事業内容】 ■ファインセラミックス・磁性材料など半導体製造装置部品 　機械・電子・光学・磁気的部品の精密加工 ■切断・研磨・ラップ・マシニングセンター・その他全般加工 ■新素材によるあらゆる評価試験片の受託加工 ■製品・開発研究機...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社アマリ精工 アマリ精工