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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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作業時間・作業効率を大幅に短縮!研・切削加工で全ての素材が掴めます
【その他の特長】 ■非磁性体の研削、薄膜の水晶・サファイア等をμmオーダーで加工する際に固定できる ■力を加えると変形しやすい脆弱材や特別柔らかい柔軟材を加工する際に固定できる ■真空固定、マグネット、爪、コレット等の従...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社西研デバイズ
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最大溶解量鉄換算100kg!デモ機によるテストも承っております
デモ機によるテストも承っております。 【サンプルテスト委託の概要】 ■テスト期間は1日で、1日に3回のテストが可能 ■高速度カメラで撮影して、現象を把握 ■撮影映像は静止画で提供 ■磁性材料、電池材料などの他にも、対応可能 ■納期は最短1週間~1ヶ月からご相談可能 (繁忙時などはお時間が掛かる場合がございます。ご了承ください) ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真壁技研
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