リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【開発事例】各種磁性材料・機能性材料向け設備

フリーとしながらも優れた磁気特性を実現する異方性希土類鉄系焼結磁石など…

BIZYMEの手掛けた開発事例についてご紹介します。 既存のケイ素鋼板に対してコアロスを大幅に低減可能な 「鉄基厚板アモルファス合金」をはじめ、独自のナノ結晶化技術により 低希土類含有濃度ながら優れた磁気特性を実現することができる 「等方性希土類鉄系ボンド磁石用磁粉」などを開発。 また、機能性材料開発および量産技術を活かした種々の機能性材料向け 「実験装置」並びに「量産設備」を...

メーカー・取り扱い企業： BIZYME有限会社