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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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グラナイト定盤寸法・精度表(JIS B7513)
・精度表(JIS B7513)を記した資料をダウンロードしていただけます。 【グラナイトの特長】 ■経年変化がほとんどない ■耐食性に優れている ■キズがついてもまくれができない ■非磁性体 ■維持費が安価 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ピー・ヂー・ダブリュー株式会社
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セラミック製と比べて短納期&低価格!低重心で高精度なXYスライダーを設…
【グラナイトの特長】 ■セラミック製と比較して低価格で提供可能 ■経年変化がほとんどない ■耐食性に優れている ■キズがついてもまくれができない ■非磁性体 ■維持費が安価 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ピー・ヂー・ダブリュー株式会社
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【短納期】独自の中空構造による軽量化を実現!ご希望の形状に合わせて製作…
【グラナイトの特長】 ■経年変化がほとんどない ■耐食性に優れている ■キズがついてもまくれができない ■非磁性体 ■維持費が安価 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ピー・ヂー・ダブリュー株式会社
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