リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0

第一原理計算による材料シミュレーション「matelier PHASE/…

な解析対象 】 半導体（IV族、III－V族、窒化物、酸化物、シリサイド系；Si, SiC, GaN, Ga2O3, ZnOなど） / 誘電体（high-k, low-k、強誘電体、圧電体） / 磁性体（強磁性体、ハーフメタル） / 有機化合物（分子性結晶） / 金属（合金） / 鉱物 / セラミックス / ナノカーボン（グラフェン、ナノチューブ） / アモルファス（半導体酸化膜など） / 遷移...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アスムス

マグネトスパッタ・磁気シールド磁場分布／μ-Excel　静磁場版

コイル、永久磁石、非線形磁性体の磁場分布、磁性体飽和状態を可視化！「静…

く操作ができます。 電磁場解析だけでなく熱、構造、流体、電磁波へと豊富なテーマに進化中です。 テーマにあったシリーズをお探し下さい（現在、全11シリーズ）。 【特長】 　・空間磁場、磁性体内の磁場算出 　・磁場分布、磁力線、磁場ベクトル出力 　・磁石・コイルによる直流励磁 　・磁性体の非線形性・磁気飽和 ※他の解析ソフトに比べ、低価格で導入できます。アカデミック版はさら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ミューテック