リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

静電気導電性ブラシ（両側仕様、硬め、13mm）

持ち手は非磁性で軽量なアルミニウム製！特に回路基板上のはんだや破片の除…

地された人が持っている時は、従来のブラシによって発生する高電荷の 危険がなく、ESDに敏感な組立部品の完全な掃除を可能にします。 【特長】 ■ブラシは両側仕様なので倍長持ち ■持ち手は非磁性で軽量なアルミニウム製 ■導電性の持ち手のESD特性は、木製ブラシのように湿度の影響を受けない ■硬い毛は主に電子機器用で、特に回路基板上のはんだや破片の除去に好適 ■RTT抵抗: 1 x10...

メーカー・取り扱い企業： 原貿易株式会社