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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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LEMOコネクタは、産業用アプリケーション・ドローン・ROV・介護支援…
ル:~200℃動作可能) ●耐衝撃性・水中・放射線汚染領域 ●気密仕様(真空チャンバー内ロボットとの接続) 1x10^-7 mbar.ℓ/s (1x10^-8 Pa. ㎥ /s). ●非磁性 【詳しくは、カタログをダウンロード、お問合せ下さい。】...
メーカー・取り扱い企業: 丸紅エレネクスト株式会社
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