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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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風力発電所ギアボックス潤滑システム設置例レポート。洋上など定期点検が設…
・微粒子の除去が可能 マグナムは、磁石を用いたフィルターの為、カートリッジフィルターのようなろ紙やメッシュを使ったフィルターでは取り切れない細かな磁性粒子(submicron:サブミクロン10μm~ 0.07μm)を捕捉できます。 ・目詰まりしない 磁石を特殊なプレートで挟み込むその構造から、鉄粉の捕捉エリアで流路を塞ぎません。その為、細かな...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノサポート
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