リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ファンレス産業用PC『WCOシリーズ』

頑強なM12タイプI／O接続！高い品質、耐久力、及びコンパクト設計の産…

金属素材により、 密封形態で組み立てられているIP65/IP67対応ファンレス産業用PCです。 押し出し成形のアルミニウムは強度が高く、錆に強く、伝導性に優れ、 耐腐食性が高く、不燃性と非磁性を兼ね備えています。 この組み合わせがケーブルフリー、ファンレス構造、そしてIP65/IP67の 認証評価を受け、通常の組込みシステムが対応できない用途や環境に対応する ハードウェアの限界...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社理経