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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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造船、橋梁、石油タンク等の大型製缶作業の省力に活躍しています。
溶接物に傷を付けません。 ・作業時間が短く、雑作業がゼロになります。 ・複数作業中に他のフィッターへの動作影響はありません。 ・アルミ合金を使用していますので、軽量で一人でも運べます。 ・非磁性、Ni鋼鈑の溶接では特に作業性能率・品質の向上に有効です。 ・仮付時、スキマが均一ですので溶接作業は一段とはかどります。 ...
メーカー・取り扱い企業: 東洋工機株式会社
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