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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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高磁束密度!優れたコストパフォーマンスのアモルファス軟磁性FINETE…
『アモルファス軟磁性FINETEC-AP』は、乾式製法により高磁束密度及び 優れたコストパフォーマンスを実現しました。 独自の液体急冷技術を用いて等軸的形状を有するFe-Si-B系アモルファス 軟磁性粉を生産...
メーカー・取り扱い企業: BIZYME有限会社
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磁性材料、固体電解質、ナノ材料、難焼結材料を短時間で焼結, 拡散接合…
磁性材料、固体電解質、ナノ材料、難燒結材料、高温燒結材料、溶解法ではバルク化出来ない特殊組成材料が短時間で燒結可能です。 異種金属の拡散接合も可能です。 ラインアップとして、 Roll-to-Roo式接合装置、磁場中プレス+SPS装置、グローブBOX付きSPS装置もあります。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウエキコーポレーション
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次世代磁性材料開発に最適
磁場中プレス成形・SPS焼結装置は、SPS装置のチャンバー内に大型の電磁石を設置する事により、磁性材料の磁場配向が可能な装置です。 プレス構成は精密制御を可能とするACサーボモータ制御による、1軸加圧です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウエキコーポレーション
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真空排気後、不活性ガスをチャンバー内に置換させた後、高周波誘導溶解によ…
【サンプルテスト委託の概要】 ■テスト期間は1日で完了 ■ご要望に応じてグローブボックスでの回収も可能(オプション) ■ご要望に応じて即座にSEM評価 ■磁性粉末、電池、鉄鋼関係、3Dプリンタ、化学メーカーなどの他にも、対応可能 ■納期は最短1週間~1ヶ月からご相談可能 (繁忙時などはお時間が掛かる場合がございます。ご了承ください) ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真壁技研
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