リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マグネットベース『L-505』

ベースプレート、長軸(300mm)付！自由度の高いマグネット固定ベース

『L-505』は、スイッチ1つで簡単脱着できるマグネットベースです。 強力マグネットで磁性のある面に簡単に固定でき、 金属プレートが付属しているため、磁性がない面にも自立します。 また、大型ロングストレートアームの「L-518」や、複雑なアングルに 対応可能な6関節仕様のフレキ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社BuhinDana

CIQTEK QDAFM Diamond III

CIQTEK 量子ダイヤモンド原子間力顕微鏡 Diamond III

ジーです。 ダイヤモンドNVセンター搭載の量子プローブによって可能になった磁気イメージング技術は、高い空間分解能と優れた感度で磁場を測定する新しい手段を提供します。この走査型NVセンター磁力計は、磁性材料を走査できるだけでなく、生体分子や生命科学、ヘルスケア分野におけるメカニズムの研究、診断、病気の治療など、その用途は重要なアプリケーションにも拡がります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エルエイシステムズ

【設備紹介】膜厚測定器/実体顕微鏡

厳格に品質をチェックし、本当に良質なものだけをお客様のもとへとお届けし…

の測定、電子部品・半導体産業での機能性多層膜測定、 　プリント基板産業のAu、Pd、Ni薄膜測定 ■渦電流方式　ハンディタイプ 　電流式(DIN EN ISO 2360)で、アルミや銅などの非磁性金属を素地とする 　塗料やプラスチック、アルミ上のクロムや無電解ニッケル(条件付き) 　といった絶縁皮膜の測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 藤本産業株式会社