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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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銅合金を使用した非磁性コンタクトプローブ
【概要】 非磁性コンタクトプローブNMBシリーズでは、プローブ先端から結線部までを構成する部品に非磁性体の銅合金で製作し、無電解メッキを使用することで、プローブ本体の磁性を極力抑えています。 非磁性体のプロ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンケイエンジニアリング 本社
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微小品と高精度は弊社強みの一つで、サンプル無料にお提供することができる…
ネオジウム(Nd)、鉄(Fe)、ボロン(B)を主成分とする焼結品で、非常に優れた磁気エネルギーは現行磁石の中で最高です。酸化しやすい性質があるので、一般的に用途や使用環境に応じて表面処理必要があります。 ネオジム磁石は磁石の中でもっとも強力です。 温度に対する磁力の変化が比較的大きく、高温使用の場合は、適切な形状やグレードの選択が必要です。 ...弊社は中国の杭州にあるマグネット専業メーカー...
メーカー・取り扱い企業: 杭州之江磁業有限会社 杭州事業所
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