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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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【中古】デュアルタイプ膜厚計 LZ200J ケット科学研究所
中古計測器:膜厚測定器/流量測定器/厚さ測定器
【特長/仕様】 特長/仕様はメーカーカタログから一部抜粋。詳細はお問合せ願います。 ●特長確認中です。 ●仕様 ・電磁誘導式/渦電流式兼用 ・対象:磁性金属上の非磁性被膜及び非磁性金属上の絶縁被膜 ・電磁誘導式:0から1500μm/60.00mils ・渦電流式:0から800μm/32.00mils ・RS232C※詳しくは(写真、オプション...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メジャー
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