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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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磁性を損なわずに絶縁性・防錆性を付与。フェライト磁石やネオジム磁石の表…
当社では、フェライト磁石やネオジム磁石などの磁性材料に対し、 電着塗料による絶縁・防錆コーティングを行っています。 表面が酸化被膜に覆われ、塗膜密着性が悪い材料でも 磁性を損なわずに機能性を付与できます。 製品のサイズが小さくても...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シミズ
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粉末専用のコーティング剤 磁性素材に最適! 液相反応による高密着性…
性・耐熱性に優れていますが、500℃以上の熱処理を必要とします。 当社のシリカ系コーティング剤: Protector PW-Sは、 その問題を解決しました。 ここがすごい! ・粉末・磁性材料専用コーティング剤 ・簡便な工程 ・反応時間の調整で厚膜化が可能 ・10~100nmまでの膜厚に対応可能 ・前処理から後処理まで、各種金属に最適なプロセスと薬品をご提案 ・耐食性・防錆...
メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など
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