リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

非磁性製品 「非磁性ダイオード」

MRI用途に開発された高性能ダイオードです。

非磁性製品 「非磁性ダイオード」は、4つのダイオードを単パッケージにした他社にはないユニークな製品です。 【特徴】 ○非磁性 ○高周波 ○ハイパワー 詳しくはお問い合わせ、またはカタログ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電販