リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

砕石現場でも活躍－特殊マグネットフィルタ－

過酷な作業環境は金属汚染による作業車両への影響は驚くことではありません…

■微粒子の除去が可能 マグナムはカートリッジフィルターのような ろ紙やメッシュを使ったフィルターでは取り切れない 細かな磁性粒子(submicron:サブミクロン10μm～ 0.07μm)を 捕捉することができます。 ■目詰まりしない 磁石を特殊なプレートで挟み込んだ特殊構造から、 鉄粉の捕捉エリアで流路を塞ぎま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノサポート