リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

デジタル磁気記録イレーサー　ＤＲＥ－０１

０．１秒消去　破壊 世界初　唯一の完全磁気記録消去

DRE-01は、高度の磁性材技術で生産された磁気媒体の消去が可能な磁界性能を持っています。また、様々に独特な構造で造られている磁性媒体に対して、 DRE-01では、消去媒体の置く位置をテーブルに示すことで、消去をより早く、や...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリム・アソシエイツ