リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

新・超音波画像処理システム『イージス』

経年変化の調査が容易！軽量・コンパクト構成で移動時間を含む検査速度も大…

【主な仕様(一部)】 ■適用材質：磁性体・非磁性体等、超音波検査の適用可能なもの ■適用管寸法：3B以上 ■適用範囲：300mm □範囲／1測定 ■処理速度：300mm □範囲を4mm □ピッチ測定で約3分 ■測定ピッチ：1mm...

メーカー・取り扱い企業： 日本非破壊検査株式会社