リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ニッケル代替Cu-Sn合金めっき　FC-X

シアン化合物を含まない中性のスズ－銅合金めっきです。

しては、シアンを使用する銅―スズ合金めっきが中心でありました。この銅―スズ二元合金めっきはシアン化合物やフッ化物などの有害物質を一切使用しない、中性のニッケル代替めっき液です。光沢のある白色外観の非磁性めっきです。 詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シミズ

黒色Sn-Co合金めっき　ブラックビューティー

つきまわり性に優れ、透明感のある上品な美しい黒色外観が得られます

【特徴】 ○透明感のある上品な美しい黒色外観が得られる ○つきまわり性に優れ作業性が良好 ○ニッケルアレルギー対応めっきで非磁性 ○電着塗装との組み合わせでさまざまな意匠性が得られる 【使用条件】 ○温度：30℃ ○pH：９ ○電流密度：1A/dm2 (1.0～2.0A/dm2) ○アノード：SUS304　※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シミズ