リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

材料設計支援統合システム『MedeA』

第一原理バンド計算による「材料設計」！

『MedeA』は、材料設計のための統合的な計算環境です。 第一原理バンド計算を基に、材料（金属・セラミックス・半導体など）に対する、各種物性（構造、光学物性、磁性、熱力学物性、弾性、振動、電子伝導性）を評価することができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社モルシス